Hohe Qualität für China Sauerstoff Einstufe 2 -Gauge -Regler
Anwendung :
1. Labor
2. Gas -Chromatographie
3.Gas Laser
4. GAS-BUSBAR
5. Petrochemische Industrie
6. Testausrüstung
Entwurfsfunktion:
Einstufiger Druckreduzierer
Mütterliche und Membran verwenden Hartsiegelform
Körper NPT: 1/4 ”NPT (f)
Die innere Struktur leicht zu reinigen
Kann Filter einstellen
Kann eine Panel oder Wandmontage verwenden
ProduktparameEntrenner:
| Maximaler Einlassdruck | 500,3000psig |
| Auslassdruckbereiche | 0 ~ 25, 0 ~ 50, 0 ~ 50,0 ~ 250,0 ~ 500psig |
| Sicherheitstestdruck | 1,5 -mal maximaler Einlassdruck |
| Betriebstemperatur | -40 ° F bis 165 ° F / -40 ° C bis 74 ° C |
| Leckquote gegenatmosphäre | 2*10-8ATM CC/Sek. Er |
| CV -Wert | 0,08 |
Materialien:
| Körper | 316L, Messing |
| Motorhaube | 316L. Messing |
| Diafragm | 316L |
| Sieb | 316L (10 mm) |
| Sitz | PCTFE, Ptee, Vespel |
| Frühling | 316L |
| Kolbenventilkern | 316L |
Informationen bestellen
| R11 | L | B | B | D | G | 00 | 02 | P |
| Artikel | Körpermaterial | Körperloch | Einlassdruck | Steckdose Druck | Druckguage | Einlass Größe | Steckdose Größe | Markieren |
| R11 | L: 316 | A | D: 3000 psi | F: 0-500Psig | G: MPA Guage | 00: 1/4 "npt (f) | 00: 1/4 "npt (f) | P: Panel Montage |
| B: Messing | B | E: 2200 psi | G: 0-250Psig | P: PSIG/Bar Guage | 01: 1/4 "npt (m) | 01: 1/4 "npt (m) | R: mit Erleichterungsventil | |
| D | F: 500 psi | K: 0-50pisg | W: Keine Guage | 23: CGGA330 | 10: 1/8 "OD | N: Nadelkalben | ||
| G | L: 0-25Psig | 24: CGGA350 | 11: 1/4 "OD | D: Diaphregm -Ventil | ||||
| J | 27: CGGA580 | 12: 3/8 "OD | ||||||
| M | 28: CGGA660 | 15: 6mm OD | ||||||
| 30: CGGA590 | 16: 8mm OD | |||||||
| 52: G5/8 "-RH (F) | ||||||||
| 63: W21.8-14H (F) | ||||||||
| 64: W21.8-14LH (F) |
In Solarzellenanwendungen umfassen speziell Solarzellenanwendungen, kristalline Silizium -Solarzellenproduktionsprozess und Gasanwendungen, Produktionsprozess für Dünnfilm -Solarzellen und Gasanwendungen; In zusammengesetzten Halbleiteranwendungen umfassen speziell zusammengesetzte Halbleiteranwendungen, MOCVD / LED -Produktionsprozess und Gasanwendungen; In Flüssigkristallanzeigeanwendungen umfassen speziell TFT/LCD -Anwendungen, TFT bei der Anwendung von Flüssigkristallanzeige die Anwendung von TFT/LCD, den Produktionsprozess von TFT/LCD und Gasanwendung; Bei der Anwendung von optischen Fasern umfasst es die Anwendung von optischen Fasern und den Produktionsprozess von Faser -Preform- und Gasanwendung.
